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CVD二硒化鎢薄膜(CVD WSe2:孤立晶粒、單層/多層連續(xù)薄膜)
文章來源 : 齊岳生物
作者:小編zhn
發(fā)布時間 : 2025-08-27 18:44:37
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產(chǎn)品名稱:CVD二硒化鎢薄膜(CVD WSe2:孤立晶粒、單層/多層連續(xù)薄膜)
產(chǎn)品描述:
CVD二硒化鎢薄膜(CVD WSe2:孤立晶粒、單層/多層連續(xù)薄膜)
二硒化鎢(WSe2)是一種重要的TMDs材料,因其單層直接帶隙約1.6 eV,具備優(yōu)異的光致發(fā)光和電學特性,被認為是光電與電子器件的理想候選。CVD方法能夠在不同條件下合成孤立晶粒、單層連續(xù)薄膜或多層薄膜,從而實現(xiàn)材料在基礎研究與應用之間的自由切換。
CVD WSe2通常使用WO3或WCl6作為鎢源,以Se粉或H2Se作為硒源,在高溫下沉積于藍寶石或SiO2/Si襯底。通過調(diào)控反應條件,可以得到大面積單晶域的孤立WSe2晶粒,用于研究晶體生長機理和器件制備;進一步優(yōu)化反應氣氛和升溫條件,可以獲得單層連續(xù)薄膜,展現(xiàn)均勻的帶隙和優(yōu)良的光電性能;若延長反應時間或提高前驅(qū)體供給量,則可合成多層連續(xù)薄膜,用于功率電子器件和電化學應用。
CVD WSe2在光電探測器、發(fā)光二極管、隧穿器件和柔性電子中均有應用。孤立晶粒適合研究缺陷和邊界效應,而單層與多層連續(xù)薄膜更適合大面積器件的構建。隨著工藝優(yōu)化,CVD WSe2在晶圓級應用中展現(xiàn)出巨大潛力。
產(chǎn)地:西安齊岳生物
用途:科研
以上資料由西安齊岳生物小編zhn提供,僅用于科研
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